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内容(「BOOK」データベースより)
半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。
本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。
具体的には、光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。
内容(「MARC」データベースより)
光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれる。
変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説した入門書。
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最終調査日時
2013/05/05 (Sun) 15:29:15
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2013/05/05 (Sun) 15:29:15
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